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活動名稱 3DIC技術研討會
活動日期 2012/09/12
地  點 工研院中興院區9館010會議室(新竹縣竹東鎮中興路四段195號)
主辦單位 工研院電子與光電研究所
協辦單位 先進堆疊系統與應用研發聯盟(Ad-STAC)、先進微系統與構裝技術聯盟(AMPA)
報名方式 請填寫報名表,mail至hui_chen@itri.org.tw 或傳真至(03)582-0374 周惠珍小姐收
報名費用 免費
報名截止日期 請於9月11日(星期三)前報名,額滿為止。因座位有限,Ad-STAC 與AMPA聯盟會員廠商享有5位名額,一般廠商則為2位名
聯絡窗口 周惠珍小姐 Tel:(03)591-8062,e-mail:hui_chen@itri.org.tw
附件檔案    報名表
 

由於3DIC具有高度異質晶片整合、體積小、低耗能、低成本與高效率等特性,使用3DIC技術的發展成為全球各產業關注之焦點,有鑑於此,工研院電光所特別邀請來自歐洲與日本之專家分別對晶片堆疊、晶圓接合、問題解決與無電鍍等技術,以及3DIC、矽穿孔(TSV)與MEMS構裝的技術發展趨勢與市場資訊作深入探討與互動交流,期望您撥冗參加此盛會。



【議  程】

 

Time

Topic

Speaker

9:00~9:30

Registration

 

9:30~9:35

Opening

Dr. Wei-chung Lo. Director, EOL/ITRI

9:35-10:15

Wafer to Wafer and Chip to Wafer stacking technology for 3D Integration – Advances in Process and Equipment Technology

Mr. Markus Wimplinger, EVG

 

10:15-10:55

Room Temperature Wafer Bonder by Surface Activation

Mr. Kensuke Ide

Mitsubishi Heavy Industries.

10:55-11:05

Break

 

11:05-11:45

SUSS 3D-IC Solutions

Ms. Ulrike Schoembs, Product Manager, SUSS

11:45-12:25

Electroless Plating for Under Bump Metallization in high volume production

Mr. Toru Imori

JX Nippon Mining & Metals

12:25~14:00

Lunch

 

14:00~15:00

3DIC & TSV business update

2.5D Glass & Silicon interposer substrate update

Mr. Jerome BARON, Yole

 

15:00~15:10

Break

 

15:10~15:40

MEMS Packaging : technology & market trends

Mr. Jerome BARON, Yole

15:40~16:00

Q & A

Mr. Jerome BARON, Yole

 

 
 
 
 
 

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22 -- .doc 2012/11/6

 
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